甚磁科技（上海）有限公司

超快脉冲激光沉积镀膜工艺

脉冲激光沉积是超导带材制备中最关键的镀膜工艺，决定了镀膜面积，镀膜速度和镀膜均匀性等，这些因素都将对超导带材性能产生直接影响。

超导层的成膜速度受众多因素影响，是决定高温超导带材生产效率和产品性能的的关键因素。公司基于自主研发的超快薄膜沉积工艺，最快超导层成膜速度可超过200 nm/s。

通过在超导靶材中人为引入非超导第二相，并对靶材配方和沉积过程进行精准调控，已经成功获得分布态的柱状人工磁通钉扎，可显著提升超导带材在低温高场条件下的服役性能。